好消息: 不用光刻机也可以制造芯片。坏消息: 是华裔科学家研发的

近日，麻省理工学院在原子级晶体管的研发中获得了技术突破，该技术可以在不使用光刻机的前提下，生产制造出高精度芯片，并且芯片的功耗也会极大降低。

新技术的晶体管，在芯片技术的堆叠上面采用了气象沉淀逐层堆叠的生产工艺，这种方法可以精确地控制原子和分子的位置和方向，从而制造出低功耗、高性能的芯片。

美国麻省理工大学半导体研究院认为，这项技术是半导体芯片领域的一次全新突破。晶体管的改变，会对芯片设计制造产品质变。新技术的诞生，会带来一次全新的技术变革，开启一个全新的科技时代。

研发这项技术的负责人名叫朱家迪，他是一位来自于麻省理工学院的华裔科学家。

半导体领域一直遵循着摩尔定律的发展原则，摩尔定律认为，芯片在达到1nm的制程工艺之后，将会来到芯片制造的极限工艺，再往下发展，会遇到非常困难的技术壁垒。

而朱佳迪开发的新技术，可以在后续的发展中突破这个技术壁垒，进入一个全新的芯片制程工艺时代。

作为一名华裔人员，朱佳迪已经可以算是拥有美国国籍的科学家了。他掌握的技术，或者说他申请的技术专利，都是属于美国的，又一次巩固了美国在科技发展上面的垄断地位。

很多人会好奇，本身就是中国人，为什么到后来却入美国国籍，帮美国去发展技术？

这里面有历史原因，也有环境因素。

当年台积电跟IBM在晶圆代工领域共同竞争老大的地位，最后，台积电凭借着胡正明和梁孟松师徒二人，率先完成了150nm技术的研发，在技术发展上面打败了ibm。

胡正明和梁孟松都是中国人，不过后来由于国内外对于科技发展的重视程度，胡正明选择入美籍去美国发展，梁孟松则保留中国国籍，现在在中芯国际担任CEO。

都知道荷兰asml的高端光刻机业务垄断全球，日本的尼康和佳能也发展光刻机业务，在早期的市场竞争当中，尼康和佳能在技术水平上面要比asml高。

台积电内部有一名技术人员名叫林本坚，他也是华裔，主攻的业务版块是微影技术。林本坚团队在后来的发展中开发出了一项浸润式微影的光刻技术，这一项技术的诞生，直接改变了光刻机业务的市场格局。

台积电在后来跟asml合作，asml也成功的依靠林本坚团队的新技术开发出了高精度的光刻机产品，一举奠定了光刻机业务老大的地位。

林本坚团队开发的新技术，不但帮助了半导体上下游供应链实现了产品的更新换代，而且还顺利的将摩尔定律延续了下去。

综上所述，都说科学无国界，但是科学家有。在国际半导体的发展过程中，华人、华裔群体贡献了不少力量，美国追求高新技术的发展，针对于半导体等高新技术有国家的政策扶持，这也是很多华人科学家去往欧美国家发展的原因之一。

国内也有一批热血沸腾的科学家，在为国家半导体业务的发展上面做出了巨大贡献，张汝京、江上舟、胡伟武、倪光南，但是他们发展技术的脚步困难且缓慢，甚至有的人已经病死在了工作岗位上。时代在发展，我们的道路依然曲折。