6台光刻机运抵大陆, 7nm芯片提上日程, 美媒: ASML“叛变”了

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ASML在中国大陆有非常多的客户，可以保障ASML中低端光刻机的需求。由于台积电，三星等巨头都在竞争高端芯片，采购的光刻机几乎都是EUV光刻机，所以中低端光刻机在大陆能迎来更多的订单机会。

ASML又将6台中低端光刻机运抵大陆，7nm芯片提上日程，有美媒表示：ASML “叛变”了。

ASML一年的光刻机产能多达四五百台，未来还会大幅提升光刻机产能。其中DUV光刻机产能提升至600台，EUV光刻机90台。这么多的光刻机ASML卖得出去吗？

这就得看市场需求了，美国、欧盟、日本、中国等国家地区都在加大芯片制造业布局。

以中国为例，制定了70%的芯片自给率目标，中芯国际手中还有4座12英寸晶圆厂在建，积塔半导体等国产厂商也在频繁开展芯片建设项目，每隔一段时间就会公开招标半导体设备。

这给了ASML很大的商机，果不其然，ASML 积极参与积塔半导体的设备招标，成功拿下了6台光刻机订单。有消息透露，这6台光刻机已经运抵大陆，虽然不是最先进的EUV光刻机，但满足成熟芯片制造需求是没有问题的。

而且中国目前主要的芯片制造目标就是成熟芯片，可别小觑成熟芯片，市场需求是非常大的。

成熟芯片被广泛应用于各种电子产品中，如智能手机、平板电脑、电视机等等。这些产品需要高品质、高性能的芯片来保证其正常运行和用户体验。成熟芯片的生产和供货也更加可靠和稳定，可以更好地支持设备制造商的生产计划和市场需求。

因此，成熟芯片在市场上的需求非常大。ASML的中低端光刻机依然是主流半导体设施，与其盲目冲刺高端，不如先做好自主可控的市场领域。

待时机成熟，一切都会水到渠成。ASML被允许供货的范围也包括支持7nm芯片生产的光刻机，比如TWINSCAN NXT：1980Di。

在荷兰与美国达成协议后，ASML就向客户解释“最先进”的浸润式光刻机限制范畴，只有TWINSCANNXT：2000i及以上的光刻机才会被限制出货。TWINSCAN NXT：1980Di不在限制范围内。

根据ASML官网显示，TWINSCAN NXT：1980Di光刻机理论上可以达到7nm，只是需要进行多重曝光，成本会更大一些。稳妥起见，制造商多数将TWINSCAN NXT：1980Di用于制造成熟芯片。

只是在高端芯片被限制出货的情况下，TWINSCAN NXT：1980Di或许能成为破局的切入点，让7nm提上日程也并非不可能，具体就需要看制造商的商业布局了。如果不是美国规则限制，ASML早就把最先进的EUV光刻机出货到中国了。

但ASML并不打算放弃中国市场，打算用数量弥补质量，出货的DUV光刻机越多，还能占据中国市场份额。

有美媒表示：ASML“叛变”了，ASML 的做法明确站在了美国规则的对立面，不想顺着美国的规则往下走。ASML越是阻碍ASML出货，ASML就越要争取中国市场。

站在中国市场的角度，虽然ASML光刻机能满足市场需求，但也未必是件好事。ASML持续向中国大陆出货光刻机，很容易抢走国产光刻机厂商的市场份额。

光刻机不是一次性用品，进入生产线之后几乎不会拆除，国产光刻机再想进入生产线就难了。而且国内还会对国外技术设施产生过度依赖，只想着用钱解决问题。等有一天发现钱解决不了问题的时候就晚了。

那么国产光刻机该如何摆脱ASML的依赖呢？或许可以加强人才培养，光刻机技术需要高水平的研发人才，国内企业需要加大对人才的培养和引进力度，培养出一支高素质的光刻机研发团队。

也可以加强资金投入，提高研发经费的比例。光刻机是半导体产业的重要环节，国内企业需要与上下游产业链建立紧密的合作关系，形成协同发展的局面，才能摆脱对ASML的依赖。

光刻机技术是一项高度复杂的技术，涉及到光学、光源、机械、电子等多个领域。

国内企业需要在这些领域有所突破，研发出高精度、高稳定性的光刻机，才能走出一条自己的路。当然，光刻机的研发不是一朝一夕就能搞定的，ASML花费了几十年才有如今的成就，还是依靠全球产业链的支持，才走到这一步。

国产光刻机还有很长的路要走，ASML的“叛变”是为了赚钱，国产芯片要想崛起，还是得靠自己。

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